MF198200 - SEMI MF1982 - Test Method for Analyzing Organic Contaminants on Silicon Wafer Surfaces by Thermal Desorption Gas Chromatography Revision:SEMI MF1982-0714 - Superseded

MF198200 - SEMI MF1982 - Test Method for Analyzing Organic Contaminants on Silicon Wafer Surfaces by Thermal Desorption Gas Chromatography Revision:SEMI MF1982-0714 - SupersededOrganics are present in many materials, such as plastics, lubricants, cleansers, soaps, and living tissues. Some of these compounds are volatile and others can become airborne through chemical reactions, heating, abrasion, or outgassing. Organic compounds are present in many materials such as parts and components for cleanrooms, carriers, FOUP, developers, and organic removers. Some of these organic compounds are volatile and some can be discharged

新たなゲート電極材料に要求される特徴の一つは，シリコン酸化膜（SiO2膜）とSiO2に代替すべく開発が進んでいるhigh-κ膜の両方のゲート絶縁膜に対して使用できる可能性である。ゲート電極の仕事関数差は，ゲート電極材料とシリコン基板の特性のみによる様に見えるが，さまざまな，金属と絶縁体の相互作用が，有効仕事関数に影響を与える電位シフトを発生させることが報告されている。したがって，これらの影響を十分考慮したテスト片構造と解析が求められる。

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The procedure involves detection and measurement of the surface elemental composition by Auger electron spectroscopy (AES)

表面処理と表面清浄装置

RGV and OHT) and the passive equipment (e

• edge roundness

So a conventional particle removal test method for particle filters is not suitable to evaluate EFFU particle removal performance

Furthermore

SEMI C27-0301 (technical revision)

7-0304 (technical revision)

This Document references SEMI E78

本書の要求条件は，UPWを使用し温度を上昇させた状態での材料および部品の試験に焦点を当てているが，本書のユーザが検討する可能性のある腐食剤，酸化剤等の化学薬品も適用対象となる。しかし，考え得るあらゆる接液する薬液に対する膨大な数の試験パラメータを定義することは，本書の範囲外である。ただし，本書は，サプライヤやエンドユーザがUPW以外の化学薬品を使用した試験，またはその他の温度条件での試験を行う可能性や，また，本書内の要求条件とは独立した独自の内部制限を設ける可能性を排除または制限することを意図したものではない。